光栅化可见性

几何覆盖产生候选样本，深度比较筛选表面，模板测试按标签控制区域。三者位于同一条可见性链，但读取的数据和比较规则不同。

专题入口

关注环节	入口
样本覆盖与片元属性	光栅化与属性插值
设备深度与位置重建	深度缓冲与位置重建
深度拒绝与遮挡工作削减	基于深度的可见性优化
有限位宽的区域标签	Stencil与对象遮罩

阅读路线

先从覆盖规则理解哪些样本有机会参与绘制，再确认深度的数值约定和比较方向。随后区分深度的生成与使用：深度预通道先建立不透明深度，提前拒绝和层级深度再利用已有深度减少后续工作。没有独立预通道时，先前绘制写入的深度也可以用于拒绝；各项策略的条件与成本由可见性优化专篇展开。

模板用于表达对象或区域的选择关系。选中遮罩、门户和局部效果从模板专篇进入，并结合深度测试的先后关系检查写入结果。

相关主题

• 空间变换：裁剪坐标、透视除法与屏幕位置。
• Shader接口与数据流：阶段输入输出和属性传递。
• 可见性与合成：对象级剔除与透明颜色合成的关系。

参考资料

各专篇列出对应机制的原始资料、版本与实际验证范围。